1、版图设计：根据客户来料需求（bumping、Advanced package、interposer等），使用专业版图设计软件（如Klayout、L-edit、CAD等）绘制生成设备可以识别的掩膜版版图设计文件（GDS格式）； 2、标记设计：设计光罩上的各种标记，如overlay Mark、alignment Mark等； 3、完成版图物理验证：包括DRC、LVS等； 4、部门协作：与芯片设计团队、Mask供应商团队等密切合作。确保设计的Mask符合芯片设计的意图和要求；确保光罩的质量和进度。