光刻工艺工程师当面告知
江苏卓胜微电子股份有限公司
2026-11-14 18:42:53
其他社招
岗位详情
地区：
无锡市
专业要求：
物理学化学材料科学与工程电子科学与技术微电子科学与工程
岗位职责：
岗位定位为Photo TD PE，根据研发项目节点完成Photo专项验证，及时处理研发LOT，输出验证数据与报告
熟悉i-line与KrF光刻胶型号，根据lift-off、刻蚀等不同的工艺要求进行光刻胶选型，优化光刻胶胶厚、CD、Profile及套刻精度
熟悉ASML光刻机、TEL涂胶＆显影机、CDSEM、Overlay量测等机台Recipe缤辑与优化
熟悉芯片工艺开发流程，跟踪新技术、新产品流片全流程，Photo相关异常识别与解决
熟悉产品作业及量测Handbook，每层LayerPhoto工艺参数制定与优化
6寸及以上FAB工作经验，具有SAW、HBT、PHEMT等射频芯片工艺开发经验者为佳
招聘要求：
1、良好的逻辑思维和沟通协调能力、学习能力、抗压能力
2、能熟练应用DOE手段进行工艺条件探索井要求做到工艺参数标准化
3、能及时处理Photo工艺实发性问题，并写总结报告
4、具有识别并解决工作领域内出现的常见问题，提出合适的解决方案
5、半导体基本FAB运行基本技能和常识，具有良好的思想素养和道德品质
6、具有4~6年的Photo工艺工作经验，熟悉Photo工艺相关理论知识
公司介绍
江苏卓胜微电子股份有限公司
江苏卓胜微电子股份有限公司，位于江苏，法定代表人：许志翰，登记状态：存续，注册资本53494.3198万人民币，公司类型：民营/私企
公司信息:
公司名称:江苏卓胜微电子股份有限公司
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